20年研发经验
年专业研发制造经验
中国智造行业品牌厂家

VP-RS系列

真空等离子处理仪

去胶刻蚀专用
等离子处理仪

   善准VP-RS系列真空等离子处理仪对标国际一线厂商,补充国内技术短板(专利:真空不锈钢腔体等离子清洗装置),真空腔体不锈钢材质,功率500W,频率13.56MHz,能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用,满功率运行3分钟,腔体温度不高于45℃,不损伤样品,适用于晶圆去胶、芯片去胶、半导体刻蚀、硅材料刻蚀、碳毯(CF)、微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA等离子体处理。

芯片去胶
质保两年
干法刻蚀
产品特性

中英文操作系统,触摸屏控制,界面智能化设计,避免误操作

数显真空检测,实时观察自动泄压动态
13.56MHz物理清洁、刻蚀;化学改性、活化俱佳

真空等离子处理仪控制软件​著作权:2021SR1026389

BB设计理念,操作简易

手机和平板可远程查看产品信息

功率连续可调

真空不锈钢腔体等离子清洗装置专利:201821506143X

实时电压监测

两路进气通道,进气量可调,流量实时监测


腔体不锈钢材质

低温<45℃

真空泵和主机联动噪音和油气污染小
等离子清洗强度实时显示

性能可靠  缔造真空等离子处理仪行业品牌厂家

01
Better Reliability,Better Operation
内置两路气路,气体流量可调,无需再搭配气体混合仪
专利软件、操作简易,智能化设计,避免误操作
采用数字显示压力,实时观察腔体压力变化情况
中英文操作系统,触摸屏控制,人机界面友好
电流、电压实时监测,确保仪器稳定安全运行
触摸屏控制
中文简易操作
清洗时长可在触摸屏设置,等离子处理时间精确到秒(s)
PLASMA处理结束后,自动泄压,泄压时长和大小可调;可通入氮气泄压
功率连续可调
02
对标国际一线厂商,补充国内技术短板
腔体温度小于32℃
VP-R3与国际一线品牌比对试验
成功掌握频率13.56MHz用于PLASMA处理
PDMS键合
性能媲美国际一线厂商,在控制自动化,人性化设计方面更完善
通入气体和泄压是独立通道互不干扰;自动泄压比手动泄压更方便
腔体低温,满功率运行3分钟腔体温度不高于45°C,不损伤样品
腔体材质为不锈钢,功率达到500W
13.56MHz等离子体处理对材料既有清洁、刻蚀、也有活化改性作用
03
细节把控,给用户更好体验
石英玻璃腔体
真空泵
真空腔体不锈钢材质,功率达到500W
配备的双级旋片真空泵噪音和油气污染小,真空度高
真空泵与主机联动,可在触摸屏控制真空泵开启/关闭
2米不锈钢波纹管,比橡胶管更耐用,密封性更好
1.5米不锈钢波纹管
OF-25油污过滤器
标配清洗托盘,方便使用
安捷伦Agilent干泵(选配),避免油气污染
OF-20油污过滤器(选配),避免排气口油气对实验室环境的污染
04
经典清洗案例分析
石墨烯粉末清洗、改性,去除粉末杂质和油质,增加石墨烯表面亲水基团(-OH)提高亲水性
金属油污等离子清洗
石墨烯粉末等离子清洗
微流控芯片
碳毯CF
芯片去胶
煤粉等离子低温灰化、碳毯(CF)亲水性处理
PDMS等离子活化改性,提升亲水性和键合力
晶圆去胶,芯片去胶等干法刻蚀
二维材料的清洁、刻蚀
硅片亲水性处理,改性、活化表面
PLSAMA等离子处理样品疏水性的应用方案(请联系在线工程师)
05
石墨烯粉末VP-RS6亲水性处理XPS谱图分析
处理前石墨烯粉末溶于蒸馏水,会粘在瓶壁上
处理后石墨烯粉末上下摇匀后,不会粘在瓶壁
处理后
处理前石墨烯粉末很快下沉到瓶底,肉眼可见分层明显
处理后石墨烯粉末悬浮在水体,说明其亲水性增强
绿色曲线为处理前的XPS谱图,曲线一直都是平稳走向

红色曲线为处理后的XPS谱图,曲线在285eV左右有个峰值,

可知石墨烯粉末的性质已改变

处理前
处理后
处理前
处理后石墨烯导热率可提高40%,稳定性增强
石墨烯用于第三代半导体封装散热管理的研究
06
ITO导电玻璃等离子VP-RS6处理接触角测量仪分析
真空泵
石英玻璃腔体
CM-180接触角测定可知,未处理ITO接触角为80°C,处理后ITO接触角48°C,亲水性明显增强
处理前平均接触角、右接触角和左接触角三条曲线分离,处理后三条曲线重合,说明ITO表面更平整
1.5米不锈钢波纹管
卡扣
VP-RS系列满功率运行3分钟腔体温度低于45°C,非常适合ITO导电玻璃不耐热属性
通入氧等离子体时,可以提高ITO导电玻璃的功函数
技术规格


型号

VP-RS6

VP-RS8

VP-RS15

VP-RS20

腔体材质

不锈钢

腔体容量

6L

8L

15L

20L

内腔尺寸

250x160x160LxWxHmm

320x160x160LxWxHmm

320x250x200LxWxHmm

400x250x200LxWxHmm

射频功率

500W

射频频率

13.56MHz

RF放射

频率偏移量

小于0.2KHz

等离子体轰击

从上往下

等离子体激发

触摸屏一键自动启动

腔体温度

满功率运行3分钟腔体温度<45℃ 

清洗时间

0 - 1200S 可调

功率调节

连续可调

显示屏

4.3寸触摸屏

操作控制

触摸屏控制(设置清洗时间),并提供中英文两种操作界面

气体流量计

高精密2路浮子流量计(常用气体:氧气,氩气,氮气,氢气,四氟化碳,氨气,二氧化碳等)

提供进气气路

两路进气,气体流量 0-300ml/min可调

两路进气,气体流量0-600ml/min可调

进气管

两根6x4PU管,尾端配6转6快拧接头

泄压

等离子处理结束,自动泄压,泄压时长和速度可调。可提供氮气或其他气体泄压通道(选配)

真空泵极限真空度

5x10⁻²Pa

噪音

≤52dB

≤58dB

抽真空时间

启动到发出辉光≤50秒(时间可调)

启动到发出辉光≤60秒(时间可调)

真空检测

数字显示,实时观察腔体真空度状态

泄漏检测

触摸屏上有一键泄漏检测功能

冷却方式

风冷

腔体门

带可视窗高强度铝合金,并在触摸屏上自动识别开/关

真空泵控制

主机与真空泵自动联动并可在触摸屏上控制真空泵开启/关闭

供电电源

AC220V/50Hz

箱体平衡

减震橡胶脚杯

质保期

主机质保2年,真空泵1年

机箱尺寸(LxWxH)

560x450x360mm

660x550x400mm

订购信息

标准配置

主机、双级旋片真空泵、2米波纹管、两路进气管、清洗托盘、六角工具、说明书、合格证、保修卡

选配件

1、油污过滤器 2、干性真空泵(防止油气挥发,高洁净实验室适用) 3、腔体大于20L可定制

用户成果摘录
成果2
成果4
成果1
成果3
成果2




期刊名称:Energy & Environmental 

期刊名称:Science 

影响因子:34.5

中科院分区:一区

善准品牌:SUNJUNE PLASMA

用户单位:中国科学院北京纳米能

用户单位:与系统研究所

处理材料:棉纺纤维

期刊名称:Chemical Engineering

期刊名称:Journal 

影响因子:15.1

中科院分区:一区

善准品牌:SUNJUNE

用户单位:烟台大学

处理材料:PDMS、聚氨酯TPU、SEBS

期刊名称:Nature 

影响因子:64.8

中科院分区:一区

善准品牌:SUNJUNE PLASMA

用户单位:西湖大学

处理材料:氩等离子体处理二氧化硅(等离子处理过程不接触空气)

期刊名称:Science China 

期刊名称:Materials 

影响因子:8.1

中科院分区:一区

善准品牌:SUNJUNE PLASMA

用户单位:华南理工大学

处理材料:ITO(氧化铟锡) 

典型用户

烟台大学
中科院上海微系统所
中科院长春应化所
西湖大学
山东省实验室
香港科技大学
知识产权声明
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