VP-R系列
真空等离子处理仪
善准VP-R系列真空等离子处理仪对标国际一线厂商,补充国内技术短板(专利:低温真空石英腔体等离子清洗装置),VP-R系列频率13.56MHz,能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用,满功率运行30分钟,腔体温度不高于32℃,不损伤样品,适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。
中英文操作系统,触摸屏控制,界面智能化设计,避免误操作
真空等离子处理仪控制软件著作权:2021SR1026389
手机和平板可远程查看产品信息
实时电
压监测
腔体低温<32℃
两路进气通道,进气量可调,流量实时监测
低温真空石英腔体等离子清洗装置专利:CN209035068U
性能可靠 缔造真空等离子处理仪行业品牌厂家
红色曲线为处理后的XPS谱图,曲线在285eV左右有个峰值,
可知石墨烯粉末的性质已改变
期刊名称:Energy & Environmental
期刊名称:Science
影响因子:34.5
中科院分区:一区
善准品牌:SUNJUNE PLASMA
用户单位:中国科学院北京纳米能源
用户单位:与系统研究所
处理材料:棉纺纤维
期刊名称:Chemical Engineering
期刊名称:Journal
影响因子:15.1
中科院分区:一区
善准品牌:SUNJUNE
用户单位:烟台大学
处理材料:PDMS、聚氨酯TPU、SEBS
期刊名称:Science China
期刊名称:Materials
影响因子:8.1
中科院分区:一区
善准品牌:SUNJUNE PLASMA
用户单位:华南理工大学
处理材料:ITO(氧化铟锡)
期刊名称:Nature
影响因子:64.8
中科院分区:一区
善准品牌:SUNJUNE PLASMA
用户单位:西湖大学
处理材料:氩等离子体处理二氧化硅(等离子处理过程不接触空气)
典型用户