VP-G3系列

手套箱专用真空等离子处理仪

  手套箱专用真空等离子处理仪是善准为了回应市场需求而研制成功的创新型产品。

  “得材料者得天下”，随着科技的发展，PLASMA作为材料处理的一种工艺，向着更精细化的方向推进，不少高校科研机构表示其材料的PLASMA处理、匀胶、镀膜需在无氧无水环境下进行，作为创新驱动型的公司，善准人义无反顾地接下了这个挑战，经过夜以继日的艰苦拼搏，反复测试，成功研发出手套箱专用的分体式真空等离子处理仪，实现主机和真空腔体分离，既保留了真空等离子处理仪自动化操作的便利及PLASMA处理效果，又实现把真空腔体分离，便于放入手套箱的狭小空间，解决了用户对PLASMA处理精细化的痛点。

  善准VP-G3手套箱专用真空等离子处理仪是在VP-R系列基础上（专利：低温真空石英腔体等离子清洗装置）进行设计、研发，等离子体激发频率为13.56MHz，满功率运行30分钟，腔体温度不高于32°C，不损伤样品，对材料表面起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、PI、二氧化硅、亚克力等几乎所有材料的PLASMA处理。

  善准VP-G3手套箱专用真空等离子处理仪的腔体是独立的，真空腔采用石英玻璃——直径150mm，纵深200mm的圆柱形腔体；外壳采用耐腐蚀的高强度铝合金——长宽高为296x245x253mm；材料的放置、处理、取出均在无氧无水、无污染的手套箱内完成，从而实现PLASMA等离子处理更精细化的实验要求。

两路进气通道，进气量可调，流量实时监测

腔体外壳长宽高为296x245x253mm

腔体温度不高于32℃，容积3L

低温真空石英腔体等离子清洗装置专利：ZL201830519505.8

手套箱内只需要操作放入和取出样品，其他的操作（处理时间、功率、气体流量、泄压）均在手套箱外完成

主机与腔体分离  实现PLASMA等离子体处理无污染环境

红色曲线为处理后的XPS谱图，曲线在285eV左右有个峰值，

可知石墨烯粉末的性质已改变

期刊名称：Chemical Engineering

期刊名称：Journal 

影响因子：15.1

中科院分区：一区

善准品牌：SUNJUNE

用户单位：烟台大学

处理材料：PDMS、聚氨酯TPU、SEBS

期刊名称：Nature 

影响因子：64.8

中科院分区：一区

善准品牌：SUNJUNE PLASMA

用户单位：西湖大学

处理材料：氩等离子体处理二氧化硅(等离子处理过程不接触空气)

期刊名称：Science China 

期刊名称：Materials 

影响因子：8.1

中科院分区：一区

善准品牌：SUNJUNE PLASMA

用户单位：华南理工大学

处理材料：ITO(氧化铟锡) 

期刊名称：Advanced Functional

期刊名称：Materials（AFM） 

影响因子：19.2

中科院分区：一区

善准品牌：SUNJUNE PLASMA

用户单位：中国科学院北京纳米能源

用户单位：与系统研究所

处理材料：导电碳布（织物）

典型用户